随着增强现实（AR）技术在消费电子、医疗及工业等领域的快速发展，市场对高性能光学元件的需求日益迫切。高折射率光学组件是实现设备轻薄化、扩大视场、提升沉浸感的关键。金属氧化物虽具有高折射率、高透过率和良好的稳定性，是理想材料，但其传统制造方法——如气相沉积工艺复杂、成本高昂，溶胶-凝胶法则需高温处理，易导致基板不匹配、表面缺陷等问题，严重制约了AR光学元件的规模化与低成本制造。Flexfilm全光谱椭偏仪可以非接触对薄膜的厚度与折射率的高精度表征，广泛应用于薄膜材料、半导体和表面科学等领域。

为突破这一瓶颈，研究团队研发了基于UV固化的金属氧化物前驱体技术。该技术通过精心设计的配方，可在低温（低至100°C）下形成无机涂层，其折射率可在1.30至2.35范围内精确调控。所得涂层具备原子级光滑表面、低光学损耗及优异的环境稳定性，不仅兼容多种基材与集成工艺，更为实现AR光学元件的高性能、低成本与规模化生产提供了切实可行的创新解决方案。

实验方法

通过系统调节前驱体组成、浓度、溶剂及反应条件，实现对薄膜折射率的精确控制。采用实验设计方法优化配方，确保薄膜高透明、低雾度。材料为无纳米颗粒体系，黏度可低至1.5 cP。基板经等离子清洗后，通过旋涂成膜并在UV下固化，最后在100–250°C范围内完成热处理。采用光谱椭偏仪、透射光谱仪、雾度测试仪及扫描电镜对薄膜性能进行全面表征。

实验结果

A经250℃烘烤后高折射率薄膜的色散曲线示例,B经紫外固化后再进行 100℃烘烤的沉积薄膜的色散曲线,C硅基上折射率为 2.25 的光栅横截面扫描电子显微镜（SEM）图像,D折射率为 2.30、厚度约 100 纳米的薄膜在高折射率玻璃上的光学透射率 

所开发的前驱体可在UV照射下于低温固化成膜，形成均匀致密的无机层。折射率可在1.30–2.35范围内调控，薄膜表面光滑、雾度低、机械与热稳定性良好。在250°C下固化可获得折射率达2.30的薄膜；而在100°C下固化仍能实现折射率约2.16，且可见光区吸收极低。通过该技术成功制备出结构清晰、侧壁光滑的光栅，证明其在微纳光学加工中的适用性。薄膜在可见光区透射率超过90%，显示出优异的光学透过性能。

研究团队成功开发出一系列UV固化、无纳米颗粒、低黏度的金属氧化物基墨水体系。该体系可在低至100°C的溫度下固化，并实现高折射率（1.30 ≤ n ≤ 2.35）。薄膜具有低吸收、高透光、优异热稳定性和化学稳定性，适用于各类光学元件制造。作为概念验证，研究团队已成功制备出高均匀性光栅，彰显该材料在AR/VR设备、OLED及其他先进光学市场中的应用潜力。PhosioLux®薄膜以其独特性能，为下一代沉浸式光学系统的规模化与低成本制造提供了可行的技术路径。

Flexfilm全光谱椭偏

技术支持：180-1566-6117

全光谱椭偏仪拥有高灵敏度探测单元和光谱椭偏仪分析软件，专门用于测量和分析光伏领域中单层或多层纳米薄膜的层构参数（如厚度）和物理参数（如折射率n、消光系数k）。

▶先进的旋转补偿器测量技术：无测量死角问题。

▶粗糙绒面纳米薄膜的高灵敏测量：先进的光能量增强技术，高信噪比的探测技术。

▶秒级的全光谱测量速度：全光谱测量典型5-10秒。
▶原子层量级的检测灵敏度：测量精度可达0.05nm。

Flexfilm全光谱椭偏仪能非破坏、非接触地原位精确测量超薄图案化薄膜的厚度、折射率,结合费曼仪器全流程薄膜测量技术，助力半导体薄膜材料领域的高质量发展。

原文参考：《Innovative Fabrication of High-Refractive-Index Components for Augmented Reality Using UV-Curable Metal Oxide Precursors》