台阶仪在PZT薄膜表征全流程实操
Pb(Zr0.52Ti0.48)O3（PZT 52/48）落在三方相与四方相的准同型相界上，介电、压电和铁电性能在这里都出峰值，拿来做存储器、探测传感器这类器件很有潜力，跟半导体微电器件集成也是当前的方向。溅射法跟半导体工艺完全兼容，膜 ...
椭偏应用 | AR光波导用高折射率元件UV固化制备与椭偏表征
AR技术近年快速扩张，消费电子、工业培训、医疗等领域都在推着它往前走，对高折射率光学元件的需求越来越迫切，折射率越高，器件越紧凑，视场角越大，沉浸感越强。金属氧化物（ZrO₂、TiO₂、Nb₂O₅等）折射率高、透光 ...
增材制造零件表面粗糙度测量：台阶仪 vs. 白光干涉仪 vs. 显微镜 vs. XCT
增材制造，尤其是激光粉末床熔融，让复杂零件的制造有了新办法，但"逐层累加"的工艺也带来了特有的粗糙表面。这种表面带有部分熔融颗粒、球化效应等特征，正是疲劳裂纹容易萌生的地方。要准确评估零件性能，表 ...
薄膜厚度测量方法对比：椭偏仪 vs. 反射仪，10nm–2000nm实测数据
本研究用光谱椭偏仪（SE）和反射仪对 Si 衬底上的 SiO₂ 和 Al₂O₃ 薄膜做了比对测量，膜厚覆盖 10 nm 到 2000 nm，附带了六分量的不确定度预算。两种方法在所有样品上结果一致，偏差都在各自的不确定度范围内。椭偏仪在薄层 ...
直流磁控溅射铜薄膜生长控制：厚度、粗糙度、晶粒与电阻率关系研究
铜薄膜作为光伏电池电极层，其表面形貌直接影响器件的光电转换效率。在光伏器件中，电极层表面并非越平整越好，适度的形貌扰动可以增大有效吸收面积、延长光程，从而提高转换效率。然而，磁控溅射过程中膜厚如何系统 ...
光谱椭偏仪分析AgTa薄膜：磁控溅射制备、光学常数及600°C红外反射率保持
高温太阳能选择性吸收涂层中的红外反射层常用银（Ag）薄膜，因其红外反射率可达98%以上。但纯Ag熔点较低，超过400℃时容易发生团聚，导致反射性能下降。费曼仪器（Flexfilm）全光谱椭偏仪可以非接触对薄膜的厚度与折射率的 ...
磁控溅射镀膜技术综述
磁控溅射是制备各类功能薄膜的核心技术之一，广泛应用于节能玻璃、半导体器件、光学元件、太阳能电池、手机外壳、工模具及耐磨零部件等领域。随着高端制造业和应用需求的不断升级，该技术在靶结构、电源配置和工艺控 ...
W掺杂NiOₓ薄膜的椭偏光谱分析与光学常数表征
电致变色材料可在电场下发生可逆光学变化，在智能窗等器件中前景广阔。钨掺杂氧化镍（W-doped NiOₓ）兼具较高的离子存储能力和电子导电性，能与WO₃形成互补型电致变色体系，但该材料的光学常数在宽波段内缺乏经多种模 ...
台阶仪在沉积工艺中的应用：精确测厚消除Cr薄膜应力环缺陷
磁控溅射沉积铬薄膜时，表面常出现周期性同心圆明暗条纹，内部应力分布亦呈环状，这种缺陷源于圆形磁控靶的刻蚀槽形成环形发射源，导致高能粒子在低气压下以准弹道方式输运至衬底，造成径向能量输入不均，且铬在室温 ...
光谱椭偏仪应用｜超低折射率纳米空气柱阵列-SiO₂复合超材料
光学薄膜的折射率直接决定其与光的相互作用效果：降低折射率可抑制菲涅尔反射，提升器件效率，而提高折射率对比度则有助于构建光子晶体。传统上，将空气引入材料形成多孔结构是降低折射率的主要途径，但两类现有技术 ...
台阶仪在纯铁离子渗氮研究中的应用：磨痕轮廓测量与耐磨性表征
电磁纯铁因其优异的磁学性能（高饱和磁化强度、极低矫顽力）以及良好的塑韧性和导热性，在航空航天、军工及民用领域的磁性部件制造中占据重要地位，典型应用如磁粉离合器的转子和外壳。然而，纯铁基体硬度低、耐磨性 ...
2026国产台阶仪选型指南：费曼仪器Flexfilm探针式台阶仪深度测评
在半导体、光伏、LED 和 MEMS 器件领域，台阶高度和膜厚的精确测量直接决定材料质量和生产效率。但说实话，很多工程师在选型时挺纠结的：传统接触式探针容易划伤样品，柔性薄膜上更是测不出可信数据。是要分辨率还是要 ...
椭偏仪在锂金属电池中的应用：原位椭偏法的铜表面SEI形成动力学对比分析
锂金属电池凭借超高比容量和低标准还原电位，长期被寄望于下一代储能技术的突破口。但实际上，反复充放电过程中金属锂与液态电解液接触，界面处会自发形成固体电解质界面相（SEI），这层纳米级薄膜的组成与质量，几乎 ...
台阶仪在精密加工的应用 | 测头半径补偿提升轮廓测量精度
台阶仪（触针式轮廓仪）是精密加工领域的核心检测设备，广泛应用于航空航天与半导体制造中零件轮廓尺寸、形状误差及粗糙度的精密测量。然而，台阶仪采集的是测头球心轨迹坐标，与被测轮廓实际接触点之间存在测头半径 ...
椭偏仪在手机后盖板膜厚检测中的应用：0.01nm精度
本文解决的核心问题是：如何在不破坏样品的前提下，精确测量PET复合衬底上介质膜的膜厚？方法是将PET复合衬底等效为单层基底材料进行建模，再用光谱椭偏技术测量TiO₂梯度折射率薄膜的厚度。测量结果为212.48 nm，与SEM测量 ...
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